高性能芯片制程中的極紫外光刻雙工件臺(tái)，是先進(jìn)集成電路裝備中的重要核心設(shè)備，其加工精度決定了芯片的集成度與性能。超精密二維大行程平面定位磁浮平臺(tái)，作為該設(shè)備系統(tǒng)中最重要的部件，是功能與精度實(shí)現(xiàn)的基礎(chǔ)。

這種尖端應(yīng)用對(duì)大規(guī)格磁鋼的超高尺寸精度、高磁性能、耐蝕鍍層、零缺陷外觀等各方面，提出了超越傳統(tǒng)工藝水準(zhǔn)的嚴(yán)苛要求，使磁鋼的精密加工、制造與檢驗(yàn)成為極具挑戰(zhàn)性的任務(wù)。

我們深入掌握此類(lèi)半導(dǎo)體精密磁鋼的特殊要求，已實(shí)現(xiàn)批量穩(wěn)定交付，并可從咨詢(xún)?cè)O(shè)計(jì)、快速供樣到批量生產(chǎn)，提供全流程定制化服務(wù)。